HC級(jí)別的產(chǎn)品,結(jié)晶度中高,耐高溫抗氧化性能優(yōu)良,微觀上是約1-10微米片狀單位堆疊成的團(tuán)聚體,比表面積中高。其中HC和HC8的游離氧化硼要高。
由于氮化硼HC的原始粒度小,團(tuán)聚粒度大,有一定的球形度,方向性比片狀單晶弱,適合作填料、潤(rùn)滑添加劑、鑄造成型和注射成型的脫模劑。HC和HC8由于沒有完全結(jié)晶,仍然有晶體生長(zhǎng)的余地且游離氧化硼較多,因此更適合熱壓成型成氮化硼單組分陶瓷及制備復(fù)合陶瓷。HC-W級(jí)別有更低的氧化硼含量,適合對(duì)于氧化硼含量有嚴(yán)格要求的行業(yè)來(lái)使用。
產(chǎn)品系列 | 形貌描述 | 級(jí)別 | 平均粒度 (μm) | 比表面積 (m2/g) | 振實(shí)密度 (g/cm3) | 水溶性硼 (%) | 典型應(yīng)用 |
單片結(jié)晶HC | 約1-10微米單片和輕度團(tuán)聚顆粒的混合物 | HC | 8 | 15 | 0.4 | 0.80 | 涂料、脫模劑、陶瓷 |
HC-W | 8 | 15 | 0.4 | 0.10 | 涂料、脫模劑、陶瓷 | ||
HC8 | 6.5 | 20 | 0.3 | 1.00 | 陶瓷 |
HC級(jí)別的產(chǎn)品,結(jié)晶度中高,耐高溫抗氧化性能優(yōu)良,微觀上是約1-10微米片狀單位堆疊成的團(tuán)聚體,比表面積中高。其中HC和HC8的游離氧化硼要高。
由于氮化硼HC的原始粒度小,團(tuán)聚粒度大,有一定的球形度,方向性比片狀單晶弱,適合作填料、潤(rùn)滑添加劑、鑄造成型和注射成型的脫模劑。HC和HC8由于沒有完全結(jié)晶,仍然有晶體生長(zhǎng)的余地且游離氧化硼較多,因此更適合熱壓成型成氮化硼單組分陶瓷及制備復(fù)合陶瓷。HC-W級(jí)別有更低的氧化硼含量,適合對(duì)于氧化硼含量有嚴(yán)格要求的行業(yè)來(lái)使用。
產(chǎn)品系列 | 形貌描述 | 級(jí)別 | 平均粒度 (μm) | 比表面積 (m2/g) | 振實(shí)密度 (g/cm3) | 水溶性硼 (%) | 典型應(yīng)用 |
單片結(jié)晶HC | 約1-10微米單片和輕度團(tuán)聚顆粒的混合物 | HC | 8 | 15 | 0.4 | 0.80 | 涂料、脫模劑、陶瓷 |
HC-W | 8 | 15 | 0.4 | 0.10 | 涂料、脫模劑、陶瓷 | ||
HC8 | 6.5 | 20 | 0.3 | 1.00 | 陶瓷 |